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scia 射频离子源 RF系列

离子束与等离子体及其控制,是scia的技术核心,其所有设备的独特之处,都在于此。

产品介绍

射频RF离子源采用ICP激发等离子体,内置RF匹配与产生器,具有多种圆形口径,最大直径450mm。 可移动的离子源,自带有射频匹配器,特别适合于离子束抛光的应用。


系统参数

scia 射频离子源 RF系列


RF37-i/e

RF80-i

RF120-e

RF350-e

离子束直径

Φ37mm

Φ80mm

Φ120mm

Φ350mm

激发机制

ICP 等离子体激发,内置 RF 匹配与产生器

300W,13.56MHz

600W,13.56MHz

1000W,13.56MHz

1000W,4MHz

离子能量

100 - 2000eV

200 - 1500eV

放电室

Al2O3

石英

栅网系统

3-grids

栅网材料

石墨钼(平面或球面)

石墨(平面或球面)

高纯石墨

离子束尺寸

离子焦斑 7-15mm (FWHM),

密度达 25mA/cm2

离子束尺寸可由栅网调节

ф200mm 口径内的均匀性 5%

优点

长工作时间免维护、高稳定性

可聚焦、可内置

长工作时间免维护、高稳定性

可聚焦、可内置

长工作时间免维护、高稳定性、外置

应用

离子束修形 IBT/IBF

离子束刻蚀 IBE/IBM

离子束修整 IBT/IBF

离子束刻蚀 IBE/IBM

离子束溅射镀膜

离子束刻蚀 IBE/IBM

辅助镀膜


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