scia Multi 680
scia Multi 680 磁控溅射镀膜系统是专门为高精度光学多层膜制造而设计的，在直径为Φ680mm以内的平面或曲面基底上，镀制超过100个周期的超薄多层膜，可以镀高精度均匀膜或渐变膜。配以自动化的样品装载loadlock机构，可以缩短装载时间并提高产能。
常规属性
- 磁控溅射技术利用等离子体离子轰击溅射靶材，从而在样品基底表面沉积薄膜
- 利用同步样品公转和自转在曲面衬底上形成均匀或梯度薄膜
- 有6个磁控源，每个磁控源都有单独的外壳，以独立供气并设定各自的粒子溅射曲线
- 可选预处理离子源
- 带有loadlock的样品载具操作机构，具有2个独立的样品工位
- 样品面朝下装载，以减小粒子污染
系统性能
scia Multi 680 | |
样品尺寸 | Φ680 mm, 130 kg |
溅射源 | 6个矩形磁控源 (600 mm x 90 mm), 可选离子源 |
溅射模式 | DC : 连续 或 脉冲（1 kW）或 RF （1 kW，13.56 MHz） |
参考溅射速率 | Cr: 45 nm/min, Si: 22 nm/min, Ti: 22 nm/min |
均匀性变化 | Φ300 mm ：< 0.1 % (σ/mean) , Φ450 mm ：< 0.2 % (σ/mean) . |
基础真空 | < 1 x 10-8 mbar |
系统尺寸 (W x D x H) | 7.90 m x 4.40 m x 3.50 m （不含电控柜与真空泵） |
软件界面 | OPC |
